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基礎(chǔ)：工業(yè)相機(jī)的清理方法有哪些？
時(shí)間：2022.07.12
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1、壓縮空氣
一般情況下，壓縮空氣足以清除掉CMOS芯片內(nèi)部的所有雜質(zhì)。但不推薦噴霧劑類型的壓縮空氣，因?yàn)閲婌F劑中的壓縮空氣往往含有水、油等，可能會(huì)損壞CMOS芯片表面的物質(zhì)。
2、微纖維材料
微纖維可以深入CMOS芯片的表面清除雜質(zhì)，從而達(dá)到清潔目的。
3、純酒精(濃度90％以上)
該材料可在幾乎所有的化學(xué)試劑店內(nèi)買到。但
注意，不要使用異丙醇，因?yàn)楫惐紩?huì)吸收空氣中的水分，在CMOS芯片表面留下液體痕跡。
4、酒精替代品
除酒精外，甲醇或一種叫做Eclipse的液體也可用來清潔CMOS芯片表面。但我們不推薦使用這種方法，因?yàn)榧状际莿《疚镔|(zhì)。
5、以上各種方法綜合使用
可以綜合以上各種方法，清洗相機(jī)CMOS芯片表面。如果手指摸到了CMOS芯片前端的玻璃，也不必?fù)?dān)心，這層玻璃很堅(jiān)硬，除非使用玻璃刀、沙子或鉆石，否則不會(huì)在它表面留下劃痕。
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